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納米級三維激光直寫設備

        由魔技納米自主研發的擁有獨立知識產權的商用納米級三維激光直寫設備,能同時兼顧高精度和高自由度,實現在納米級 精度上三維結構的自由設計,具有高速度、超分辨、大范圍、無限視場等技術優勢。

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主要技術參數

加工線寬:>1000 nm

單結構成型尺寸:<500 μm x 500 μm x 2000 μm

最大加工尺寸:1000 mm x 1000 mm

最大加工高度:300 mm

重復定位精度:>500 nm

線性速度:<1000 mm/s

設備額定功率:3.6 kW

表面平滑度Ra:<100 nm

自動界面跟蹤誤差:<100 nm

自動對焦誤差:<100 nm

自動調平分辨率:<±50 urad

恒溫控制精度:<±0.5 ℃

并行加工的點陣數目:>400 個

擴展特性:2.5維衍射光學元件高速算法加工、平面圖案一次成型、大幅面自動成像、10軸飛行聯動。

 
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