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納米級三維激光直寫設備

        由魔技納米自主研發的擁有獨立知識產權的商用納米級三維激光直寫設備,能同時兼顧高精度和高自由度,實現在納米級精度上三維結構的自由設計,具有高速度、超分辨、大范圍、無限視場等技術優勢。

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主要技術參數

無掩模三維光刻技術:多光子光固化

三維最小橫向特征尺度:260 nm*

層厚:0.5–5.0 μm*

普通樣品的最大高度:30mm*

最大加工體積:20mm x 20mm x 30mm*

最佳平面粗糙度Ra:≤ 50 nm*

掃描速度:from 30 to 200mm/s*

* 參數與物鏡和光刻膠有關,可選配

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